发明名称 | 微孔抛光垫 | ||
摘要 | 本发明提供用于化学-机械抛光的包括多孔发泡体的抛光垫及其制造方法。一个具体实施方式中,该多孔发泡体平均孔径为50微米或以下,其中75%或以上的孔隙具有平均孔径20微米或以下的孔径。在一个具体实施方式中,多孔发泡体的平均孔径20微米或以下。又另一个具体实施方式中,该多孔发泡体具有多-模态孔径分布。该制造方法包括(a)使聚合物树脂与超临界气体结合产生单相溶液,及(b)从该单相溶液形成抛光垫,其中通过使气体经历高温及高压产生超临界气体。 | ||
申请公布号 | CN1671509A | 申请公布日期 | 2005.09.21 |
申请号 | CN03817583.5 | 申请日期 | 2003.05.21 |
申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 阿巴尼什瓦·普拉萨德 |
分类号 | B24D3/32;B24D11/00;B24D18/00 | 主分类号 | B24D3/32 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉;贾静环 |
主权项 | 1.一种供化学-机械抛光的抛光垫,包括具有平均孔径为50微米或以下的多孔发泡体,其中75%或以上的孔隙具有20微米或以下的平均孔径。 | ||
地址 | 美国伊利诺伊州 |