发明名称 光掩膜及修补缺陷的方法
摘要 公开了一种光掩模和用于修补该光掩模上的缺陷的方法。优选,该光掩模包括基板、缓冲层和不透射层,该缓冲层设置在该基板和该不透射层之间。该方法包括在该不透射层中形成图案。如果在图案化的不透射层中识别出一个或多个缺陷,则该缓冲层保护基板在修补图案化的不透射层中的缺陷时不受损伤。
申请公布号 CN1672099A 申请公布日期 2005.09.21
申请号 CN03818126.6 申请日期 2003.06.09
申请人 杜邦光掩公司 发明人 L·迪乌;M·J·拉曼蒂亚
分类号 G03F1/00 主分类号 G03F1/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 邹光新;梁永
主权项 1.一种用于修补光掩模上的缺陷的方法,包括:在和该光掩模相关的基板的一个表面上形成缓冲层;在该缓冲层上形成不透射层;在具有设置在基板和不透射层之间的缓冲层的不透射层中形成图案;识别图案化的不透射层中的一个或多个缺陷;以及修补该图案化的不透射层中的至少一个缺陷,同时该缓冲层保护基板在该修补步骤时不受损伤。
地址 美国得克萨斯州