发明名称 |
喷嘴清洗装置及基板处理装置 |
摘要 |
本发明提供一种喷嘴清洗装置及基板处理装置,能够提高喷出喷嘴的清洗处理的清洗效果。在清洗细缝喷嘴(41)的清洗部(74)上,设置接近细缝喷嘴(41)的喷出口(41a)的下方的导向块(743)。此外,在设置喷出氮气的气体喷嘴(710)和喷出漂洗液(LQ)的清洗喷嘴(750)的同时,利用吸引装置吸引细缝喷嘴(41)的喷出口(41a)的下方。通过设定导向块(743)的X轴方向的厚度为喷出口(41a)的X轴方向的宽度或其以上的厚度,从而进行调整,使得吸引装置的吸引力不直接作用到喷出口(41a)上。由此,可以使吸引装置的吸引力上升,提高清洗效果。 |
申请公布号 |
CN1669680A |
申请公布日期 |
2005.09.21 |
申请号 |
CN200510009408.6 |
申请日期 |
2005.02.21 |
申请人 |
大日本网目版制造株式会社 |
发明人 |
高木善则;川口靖弘 |
分类号 |
B08B3/08;B05B15/02;B05C5/00;B05C15/00 |
主分类号 |
B08B3/08 |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
高龙鑫;王玉双 |
主权项 |
1、一种喷嘴清洗装置,对从设于前端部的喷出口喷出规定的处理液的喷出喷嘴进行清洗,其特征在于,包括:清洗液供应装置,其从喷出口向前述喷出喷嘴的前端部附近供应规定的清洗液;吸引装置,其通过吸引口吸引由前述清洗液供应装置供应的前述规定的清洗液,调整前述吸引装置的吸引力,使得前述喷出口附近成为前述规定的处理液的大致停留点。 |
地址 |
日本京都府京都市 |