发明名称 |
低相干性干涉条纹的分析方法 |
摘要 |
在一种低相干性干涉条纹分析方法中,利用包络函数,把由样品的物光和参考光形成的干涉条纹光强分布,表示为光强的分布函数。接着进行相位移动,以便对每一移动行程测量光强。根据由此在相应各移动行程上测量的光强,计算光强分布函数的未知参数。然后,根据计算的未知参数,确定包络函数曲线的峰值位置。根据由此确定的峰值位置,确定样品的相位信息。 |
申请公布号 |
CN1220030C |
申请公布日期 |
2005.09.21 |
申请号 |
CN03149200.2 |
申请日期 |
2003.06.20 |
申请人 |
富士能株式会社 |
发明人 |
葛宗濤 |
分类号 |
G01B9/02;G01B11/24;G02F1/21;G06F17/00 |
主分类号 |
G01B9/02 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
蒋世迅 |
主权项 |
1.一种低相干性干涉条纹的分析方法,把干涉仪设备内用作照明光的低相干光分为两束光分支,用由此获得的两束光分支之一作为参考光,以另一光分支照射样品,以便形成载运所述样品相位信息的物光,然后根据所述物光与所述参考光彼此干涉获得的干涉条纹信息,分析所述样品的相位信息;所述方法包括的步骤为:用预定的包络函数,把沿所述干涉仪设备光轴的所述干涉条纹光强分布,表示为包括未知参数的预定光强分布函数;以预定的移动宽度进行相位移动,以便对每一移动行程,测量所述光强分布;根据对每一移动行程上所述测量的光强,计算所述光强分布函数的所述未知参数;根据所述计算的未知参数,确定所述包络函数曲线的峰值位置;和根据由此确定的峰值位置,获得所述相位信息,其中所述包络函数是高斯分布函数。 |
地址 |
日本埼玉县 |