发明名称 | 用以分析晶片制程中的集成电路的缺陷的设备及方法 | ||
摘要 | 一种用以分析晶片制程中的集成电路的缺陷的设备及方法,其以非对称性重新检视法分析半导体晶片的缺陷的设计,可在有限的检视设备及人力下,有效地从众多的报告缺陷中取出具高产率杀伤力的缺陷。在此方法中,首先,检测半导体晶片,借此获得缺陷的位置及大小。接着,以计算非对称性缺陷重新检视比率进行此些缺陷的非对称性取样,借此非对称地重新检视此些缺陷。此外,本发明的非对称取样可视缺陷的系统及方法,能够借由计算非对称性缺陷重新检视比率,从大量的缺陷中有效地取出会高度降低产率的缺陷。 | ||
申请公布号 | CN1670938A | 申请公布日期 | 2005.09.21 |
申请号 | CN200410095779.6 | 申请日期 | 2004.11.12 |
申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 廖述兴;马思尊 |
分类号 | H01L21/66 | 主分类号 | H01L21/66 |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 任永武 |
主权项 | 1.一种用以分析晶片制程中的一集成电路的缺陷的方法,包括:检测一晶片,并自动地辨认出多个缺陷;将该些缺陷分类成多个群组,该些群组具有一第一群组及一第二群组,该第一群组只包含报告大小至少与一第一预设大小一样小的缺陷,该第二群组只包含报告大小至少与该第一预设大小一样大的缺陷;以及分别从该第一群组及该第二群组选取数目比为Ny∶Nx的缺陷,以进一步地重新检视,其中Ny/Nx的值大于该第二群组的缺陷数和该第一群组的缺陷数的比值。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行路16号 |