薄膜晶体管阵列面板及其制造方法

摘要

本发明提供了一种制造薄膜晶体管阵列面板的方法，包括以下步骤：在基片上形成栅极线；在栅极线上形成栅极绝缘层；在栅极绝缘层上形成半导体层；在半导体层上形成数据线及漏极；在数据线及漏极上沉积钝化层；在钝化层上形成光致抗蚀剂，该光致抗蚀剂包含第一部分和比第一部分薄的第二部分；利用将光致抗蚀剂作为掩模蚀刻钝化层，以至少部分地露出漏极的一部分；除去光致抗蚀剂的第二部分；沉积导电薄膜；以及除去光致抗蚀剂，以在漏极的露出部分上形成像素电极。

主权项

1.一种制造薄膜晶体管阵列面板的方法，包括以下步骤：在基片上形成栅极线；在所述栅极线上形成栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成半导体层；在所述半导体层上形成数据线及漏极；在所述数据线及所述漏极上沉积钝化层；在所述钝化层上形成光致抗蚀剂，所述光致抗蚀剂包含第一部分和比所述第一部分薄的第二部分；利用将所述光致抗蚀剂作为掩模蚀刻所述钝化层，以至少部分地露出所述漏极的一部分；除去所述光致抗蚀剂的第二部分；沉积导电薄膜；以及除去所述光致抗蚀剂，以在所述漏极的露出部分上形成像素电极。