发明名称 | 用于涡旋式压缩机的真空防止装置 | ||
摘要 | 本发明公开了一种用于涡旋式压缩机的真空防止装置,包括:壳体,该壳体通过轴固定到固定涡旋件的上表面上,用以覆盖压缩孔和吸入孔,并在其上表面具有排出孔和位于其中的旋转元件容纳空间;旋转元件,该元件插入容纳空间中,以便由通过压缩孔和排出孔引入的气体的压差转动,旋转元件包括压缩气体接收槽和吸入气体接收槽,前者用于打开/关闭旋转元件一侧的压缩孔,后者用于打开/关闭旋转元件另一侧的吸入孔和排出孔。 | ||
申请公布号 | CN1219981C | 申请公布日期 | 2005.09.21 |
申请号 | CN03103732.1 | 申请日期 | 2003.01.10 |
申请人 | LG电子株式会社 | 发明人 | 李东洙 |
分类号 | F04C18/02;F04C29/10 | 主分类号 | F04C18/02 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 肖鹂;陈小雯 |
主权项 | 1.一种用于涡旋式压缩机的真空防止装置,包括:壳体,该壳体通过轴固定到固定涡旋件的上表面上,用以覆盖连接到压缩空间的压缩区域的压缩孔和连接到吸气区域的吸入孔,并在其上表面具有连接到吸入孔的排出孔和位于其中的旋转元件接收槽;旋转元件,该元件插入旋转元件接收槽中,以便由通过压缩孔和排出孔引入的气体的压差转动预定的角度,其特征在于:所述旋转元件包括压缩气体接收槽和吸入气体接收槽,该压缩气体接收槽用于打开/关闭旋转元件一侧的压缩孔,该吸入气体接收槽用于打开/关闭旋转元件另一侧的吸入孔和排出孔。 | ||
地址 | 韩国汉城市 |