具有高阻抗加热器膜片之微流体喷射装置

摘要

本发明系关于一种用于一微流体喷射头之半导体基板。该基板包括复数个安置于该基板上的流体喷射致动器。每一该流体喷射致动器包括一薄加热器堆叠，该加热器堆叠包含一薄膜加热器及相邻该加热器之一或多个保护层。该薄膜加热器由钽–铝–氮化物薄膜材料所制成，该材料具有一基本上由氮化铝、氮化钽及钽铝合金所组成之奈米结晶结构，且具有一在每平方约30至约100欧姆之范围内的薄层电阻。该薄膜材料含有约30至约70原子％的钽、约10至约40原子％的铝及约5至约30原子％的氮。