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发明名称
光阻膜去除装置及方法
摘要
本发明之光阻膜去除装置系利用臭氧水剥离业已形成于基板上之光阻膜,且包含:机台,系形成有平滑之上面,且在上面设有可收容基板之第1凹部;盖构件,系形成有与机台上面相向之平滑相向面,且在相向面设有第2凹部,并配置成第2凹部之边缘部抵接于机台上面,且密封第2凹部;及供给部及排出部,系与第2凹部相连通,且隔着第1凹部分别配置于两侧。根据该光阻膜去除装置,可迅速且确实地进行利用臭氧水之光阻膜剥离。
申请公布号
TW200531164
申请公布日期
2005.09.16
申请号
TW093124541
申请日期
2004.08.16
申请人
仓股份有限公司
发明人
水谷淳二;森山优一
分类号
H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
日本
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