| 摘要 |
本发明为一种使3D被镀物膜厚均匀分布之镀膜方法，主主要应用为在真空蒸镀时，利用镀膜工具公转时，以进动理论及转动惯量，并利用转动时的转动惰性原理，达到3D被镀物镀膜可以形成自转效应，以消除3D立体被镀物于镀膜时，减少因立体角度产生的离子承受面死角，使膜厚可以均匀分布之方法，其主要应用方法为在被镀物与夹具间预留活动间隙，以利被镀物可以产生自旋作用，并以降低摩擦系数，减少摩擦力，复以加重被镀物之外围转动惯量，因此除进动及转动惯量交互作用下，更可以加重转动惰性效果，达到镀膜时，被镀物之自旋效应可以有效使3D被镀物的受镀面，平均接触离子镀源，多面向均衡的接受镀膜，降低因受镀面空间及时间的差异，大幅降低因此产生的承受面死角问题，使镀膜时，可以精确的掌握镀膜的厚度及均衡度，满足工业需求，为精密镀膜提供一重大创新的发展方法。 |
