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发明名称
半导体元件、半导体元件阵列基板及其制造方法
摘要
本发明提供一种可抑制静电破坏、可提高良率之半导体元件阵列基板。其解决方法系在洗净玻璃基板3之层间绝缘膜侧之前,介以层间绝缘膜,在各像素5之每个显示点5a、5b、5c中形成连通闸极电极布线11且开口之虚设孔36。在洗净玻璃基板3之层间绝缘膜侧时,使与蓄积在薄膜电晶体8之多晶矽半导体层21之电荷相同之电荷介以虚设孔36而蓄积于闸极电极布线11,使闸极电极布线11与多晶矽半导体层21成为大致相等之电位,可抑制多晶矽半导体层21与闸极电极布线11之间的电压差之产生。
申请公布号
TW200530664
申请公布日期
2005.09.16
申请号
TW093136951
申请日期
2004.11.30
申请人
东芝松下显示技术股份有限公司
发明人
川村哲也
分类号
G02F1/13;H01L29/786
主分类号
G02F1/13
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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