发明名称 具有可促进浆液利用之沟槽的研磨垫
摘要 一种化学机械研磨垫(200),其包括一具有研磨区域(208)且含多个至少部份地延伸至研磨区域中之沟槽(212)的研磨层(204)。在研磨时,该沟槽包含利于研磨之浆液(236)。各沟槽包括多个混合结构(220),其设计为造成位于沟槽下部(240)之浆液与位于沟槽上部(244)之浆液之混合。
申请公布号 TW200529978 申请公布日期 2005.09.16
申请号 TW093133219 申请日期 2004.11.01
申请人 罗门哈斯电子材料CMP控股公司 发明人 葛格利P 莫道奈
分类号 B24D13/14;B24B37/04;H01L21/304 主分类号 B24D13/14
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 美国