用于半导体微影制程之聚合物的制法以及由该方法所得到的半导体微影制程用聚合物

摘要

本发明系关于一种半导体微影制程用聚合物，其适用于形成用于半导体制造之精细图案之膜层组成物，其包括下列步骤：于聚合起始剂的存在下，对包含具有乙烯双键之至少两单体之一聚合溶剂施行一自由基聚合反应，且于反应时，于该具有乙烯双键之至少两单体之该聚合溶剂中，含有一聚合抑制成份。本发明亦关于前述方法所制成之半导体微影制程用聚合物，其不包括高分子聚合物，因而具有极佳之储存稳定性以及于于半导体微影制程中阻剂图案中产生之较少缺陷。