聚合物、光阻组成物、以及形成图案的方法

摘要

以α–三氟丙烯酸与原冰片烯形成的交替共聚物作为基底聚合物的化学放大光阻组成物适合以ArF雷射实施光蚀刻微图样化并且在透明度、抗电浆蚀刻性及线缘粗糙度上均得到改善。