| 发明名称 |
Verfahren zum Untersuchen von Prozessdefekten bei Halbleitervorrichtungen |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE19640811(B4) |
申请公布日期 |
2005.09.15 |
| 申请号 |
DE19961040811 |
申请日期 |
1996.10.02 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD. |
发明人 |
BAE, SANG MAN |
| 分类号 |
G03F7/26;H01L21/027;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66;H01L21/31;H01L21/312;H01L21/32;G03F1/00 |
主分类号 |
G03F7/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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