发明名称 |
水溶性络合染料、记录液和记录方法 |
摘要 |
本发明提供了一种能够形成具有耐光性、耐臭氧性和高饱和度图像的水溶性络合染料;包含该染料的水性记录液,特别是用于喷墨记录的喷墨记录液;和喷墨记录方法。所述水溶性络合染料包含下列通式(1)表示的偶氮化合物或其互变异构体;和过渡金属离子。所述喷墨记录方法包括使用该记录液的步骤。在通式(1)中,A<SUP>1</SUP>表示成环原子中包含三个或四个杂原子的5~7元杂单环基团,或包含该杂单环的稠合杂环基团,并可以具有任何需要的取代基,且A<SUP>1</SUP>中在与键合偶氮基的碳原子相邻的位置不具有羟基取代基;环X<SUP>1</SUP>表示包含与偶氮基键合的6元杂环的稠合杂环,并选择性地具有任何需要的取代基;R<SUP>1</SUP>和R<SUP>2</SUP>各自彼此独立地表示氢原子或1价的取代基。 |
申请公布号 |
CN1668705A |
申请公布日期 |
2005.09.14 |
申请号 |
CN03816907.X |
申请日期 |
2003.07.17 |
申请人 |
三菱化学株式会社 |
发明人 |
清水渡 |
分类号 |
C09B45/34;C09D11/00;B41M5/00;B41J2/01 |
主分类号 |
C09B45/34 |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
丁香兰 |
主权项 |
1.一种水溶性络合染料,该络合染料包含下列通式(1)表示的偶氮化合物染料或其互变异构体和过渡金属离子:通式(1)中,A1是其成环原子包含三个或四个杂原子的5~7元杂单环基团,或者A1是包含该杂单环基团且该杂单环基团与偶氮基成键的稠合杂环基团,并且A1选择性地具有任意的取代基,且A1中在与键合所述偶氮基的碳相邻的位置上不具有羟基;环X1表示包含6元杂环的稠合杂环,所述6元杂环为与所述偶氮基键合的基团,并选择性地具有任意的取代基;R1 和R2各自彼此独立地表示氢原子或1价的取代基。 |
地址 |
日本东京 |