发明名称 热处理方法和热处理装置
摘要 一种处理方法,它具有将多个被处理体在高度方向放置成多段的保持夹具收容在处理容器内的工序;和通过利用加热装置加热,进行规定的热处理的工序。预先,求出进行被处理体的热处理的加热装置的特定的目标发热量。处理装置具有处理容器和设在处理容器内的控制用温度检测器和校正用的温度检测器。校正用的温度检测器由在高度方向延伸的保护管主体部,和从该保护管主体部在水平方向延伸出来的多个支管构成。在各个支管上配置热电偶,各个支管插入高度位置互不相同的被处理体之间。
申请公布号 CN1669125A 申请公布日期 2005.09.14
申请号 CN02829689.3 申请日期 2002.09.27
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 牧谷敏幸;斋藤孝规;滝泽刚;爱库曼香留树
分类号 H01L21/205;H01L21/22 主分类号 H01L21/205
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙淳
主权项 1.一种热处理方法,其特征为,它具有将在高度方向以规定间隔保持多个被处理体的被处理体保持夹具收容在处理容器内的工序,使设在处理容器中的加热装置按具有目标发热量的方式工作并加热被处理体,由此对被处理体进行规定的热处理,加热装置根据由以下的工序(1)~(3)求出的目标发热量工作,(1)以设定的基准发热量使加热装置工作,使被处理体的温度成为目标加热温度,而且,通过在处理容器内在高度方向延伸配置的温度控制用的温度检测器,检测被处理体的控制对象温度的工序;(2)利用在插入被处理体之间的状态下配置的温度校正用的温度检测器,检测被处理体的控制目标温度的工序;(3)将由温度控制用的温度检测器检测的被处理体的控制对象温度、和由温度校正用的温度检测器检测的被处理体的控制目标温度进行对比,根据控制目标温度和控制对象温度的温度差校正基准发热量、决定目标发热量的工序。
地址 日本东京都