发明名称 氮化镓类化合物半导体装置
摘要 本发明涉及主要在不超过375nm的波长下发光的LED。LED由衬底(10)上的GaN层(16)、n-覆盖层(20)、AlInGaN缓冲层(22)、发光层(24)、p-覆盖层(26)、p电极(30)、n电极(32)构成。发光层(24)为对InGaN阱层和AlInGaN阻挡层进行层叠而成的多层量子阱结构(MQW)。通过量子阱结构扩大了InGaN阱层的有效带隙并使发光波长变短。此外,通过在发光层(24)的基底层采用AlInGaN缓冲层(22),从而有效地将电子注入到发光层(24),增大发光效率。
申请公布号 CN1669158A 申请公布日期 2005.09.14
申请号 CN03816873.1 申请日期 2003.07.01
申请人 氮化物半导体株式会社 发明人 酒井士郎;菅原智也
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 刘宗杰;王忠忠
主权项 1.一种氮化镓类化合物半导体装置,具有形成在衬底上的GaN类发光层,其特征在于:所述发光层包含由InGaN阱层和AlInGaN阻挡层层叠而成的多层量子阱层。
地址 日本德岛