发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 一种半导体装置及其制造方法,现有肖特基势垒二极管的VF、IR特性为对调关系,存在为实现低VF化就不能避免漏电流增大的问题。通过用例如钛中含有微量铝的金属层作为肖特基金属层6来构成肖特基势垒二极管,可不使单纯钛的正向电压VF大幅度增加而实现低IR化,故可抑制正向损失,降低反向损失,实现低耗电化。
申请公布号 CN1667833A 申请公布日期 2005.09.14
申请号 CN200510004104.0 申请日期 2005.01.06
申请人 三洋电机株式会社 发明人 高山诚
分类号 H01L29/47;H01L29/872;H01L21/329 主分类号 H01L29/47
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 李贵亮;杨梧
主权项 1、一种半导体装置,其至少包括:一导电型半导体层;金属层,其与该半导体层表面形成肖特基结,其特征在于,所述金属层是由在肖特基金属中含有微量铝的合金构成的金属层。
地址 日本大阪府