发明名称 垂直入射型折射率测量装置
摘要 本发明系揭露一种垂直入射型折射率测量装置,其系将由左旋偏光及右旋偏光间有频差的旋光外差光源所发出来的光线,经一偏光保持光纤将光入射于一测试模组。一检偏板抽出经高反射面镜及待测物垂直反射而回光束中相同的偏极光成份,并使之干涉;其干涉信号由光侦测器测得。再利用一相位计分析光侦测器所得的讯号可得到经由待测物所引进的相位差,此相位差与待测物的折射率有关;最后再根据琼斯计算法(Jones calculus)与斯涅耳方程式所推演出的公式以及由外差干涉术所测出的相位差变化,便可计算出待测物的折射率。由于本发明无须使用造成全反射的棱镜,所以对于待测物的量测范围将不会受探头折射率的限制,故量测范围较为广泛并以垂直入射待测物,所以装置及操作上都更为简单。
申请公布号 TWI239389 申请公布日期 2005.09.11
申请号 TW092126949 申请日期 2003.09.30
申请人 国立交通大学 发明人 苏德钦;许正治;陈坤煌
分类号 G01N21/41 主分类号 G01N21/41
代理机构 代理人 林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1
主权项 1.一种垂直入射型折射率测量装置,包括:一旋光外差光源,其系射出左旋偏光与右旋偏光间有角频差的光线;一偏光保持光纤,用以引导该旋光外差光源之行进方向;一测试模组,根据入射之该旋光外差光源来测量一待测物的折射率,并产生一测试讯号;一相位计,其系产生一参考讯号,并计算该测试讯号与该参考讯号间之相位差;一单晶片,用以作为数値计算,并根据该相位计产生之相位差计算出该待测物之折射率;以及一显示器,其系显示测量出来的折射率结果。2.如申请专利范围第1项所述之垂直入射型折射率测量装置,其中该旋光外差光源所射出之光线更可经一耦合透镜导入该偏光保持光纤中传导。3.如申请专利范围第1项所述之垂直入射型折射率测量装置,其中经由该偏光保持光纤传导之光线更可经由一准直透镜将该光线准直射入该测试模组中。4.如申请专利范围第1项所述之垂直入射型折射率测量装置,其中该测试模组更包含一分光镜将该入射之光线分为穿透光及反射光;该穿透光垂直入射至该待测物,经其反射后再经过该分光镜反射并穿透一检偏板进入一光侦测器;且该反射光则通过一四分之一波片入射至一高反射率面镜反射后,再依序穿过该四分之一波片、该分光镜及该检偏板而进入该光侦测器,使该光侦测器可根据测得的测试光强度而产生该测试讯号。5.如申请专利范围第4项所述之垂直入射型折射率测量装置,其中该光线在该测试模组中,经该四分之一波片及该高反射率面镜的一臂,必须满足水平偏光分量与垂直偏光分量互换的条件。6.如申请专利范围第4项所述之垂直入射型折射率测量装置,其中该光线在该测试模组中,其强度可转换成相位项并载于外差干涉信号中之设计。7.如申请专利范围第4项所述之垂直入射型折射率测量装置,其中该单晶片之计算方式系将该相位差値代入中,而计算出该待测物之折射率;其中,式中的n代表该待测物的折射率、rm代表该高反射率面镜的反射系数、代表该检偏板的方位角。8.如申请专利范围第7项所述之垂直入射型折射率测量装置,其中该计算公式系利用琼斯计算法(Jonescalculus)及该斯涅耳方程式所推演出来的。图式简单说明:第一图为本发明之结构示意图。
地址 新竹市大学路1001号