| 主权项 |
1.一种光记录媒体,具有彼此积层且含有相变材料 之复数资讯记录层,在前述复数资讯记录层之中, 至少一个资讯记录层上,使前述至少一个资讯记录 层内所含之相变材料从结晶状态变化至非晶状态 而形成记录标示,藉此而可记录资讯,其特征为: 前述至少一个资讯记录层的未形成前述记录标示 之区域的至少一部份,具有介于形成有前述记录标 示之前述至少一个资讯记录层之区域之反射率、 及前述至少一个资讯记录层之结晶区域之反射率 之间的平均反射率。 2.如申请专利范围第1项之光记录媒体,其中 前述其他之资讯记录层,是位于较前述一资讯记录 层更为靠近光入射面侧的位置。 3.如申请专利范围第1项或第2项之光记录媒体,其 中 前述至少一个资讯记录层之未形成前述记录标示 之至少一部份的全面上,形成有微小之非晶态标示 。 4.如申请专利范围第3项之光记录媒体,其中 前述至少一个资讯记录层之未形成前述记录标示 之区域之至少一部份的全面上,形成有沿轨道方向 之长度是短于垂直轨道方向之长度的矩形之微小 之非晶态标示。 5.如申请专利范围第4项之光记录媒体,其中 前述微小之非晶态标示之沿着前述轨道方向之前 述长度,是短于雷射光束的束点直径。 6.如申请专利范围第1项之光记录媒体,其中 前述至少一个资讯记录层之未形成前述记录标示 之区域之至少一部份的全面所具有的反射率,是介 于形成有前述记录标示之前述至少一个资讯记录 层之区域的反射率,和前述至少一个资讯记录层之 结晶区域之反射率之间的値。 7.一种光记录媒体之制造方法,系属于具有积层了 复数资讯记录层的光记录媒体之制造方法,其特征 为具有: 对前述复数资讯记录层中之至少一个资讯记录层 实施熔融起始化之工程、以及 在经过前述熔融起始化之资讯记录层的全面,形成 微小的非晶态标示之工程。 8.一种光记录媒体之制造方法,系属于具有积层了 复数资讯记录层的光记录媒体之制造方法,其特征 为具有: 在前述复数资讯记录层之中,至少一个资讯记录层 的几乎全面,以约50%之负载,呈放射状地形成沿轨 道方向之长度是短于垂直轨道方向之长度的矩形 之微小非晶态标示和结晶区域。 9.一种光记录媒体之制造方法,系属于具有积层了 复数资讯记录层的光记录媒体之制造方法,其特征 为具有: 对前述复数资讯记录层之中之至少一个资讯记录 层实施固相起始化之工程。 图式简单说明: 图1为本发明良好实施形态之光记录媒体10构造的 概略剖面图。 图2为再生时焦点对准下层记录膜14时之雷射束光 路的模式剖面图。 图3为再生时焦点对准下层记录膜18时之雷射束光 路的模式剖面图。 图4至图8为光记录媒体10之制造方法的步骤图。 图9(a)~(c)为光记录媒体10之再生时,雷射束从雷射 位置A、B、C照射上层记录膜18之束点内各状态的 模式平面图。 图10为再生时雷射束之焦点对准上层记录膜18时, 位于其下部之下层记录膜14为记录区域时(雷射位 置D)、未记录区域时(雷射位置E)、以及记录区域 及未记录区域之境界部份时(雷射位置F)之各雷射 束光路的模式剖面图。 图11为本发明良好其他实施形态之光记录媒体40之 下层记录膜14的相状态之部份概略平面图。 图12(a)~(c)为光记录媒体40之再生时,雷射束从雷射 位置A、B、C照射上层记录膜18之束点内各状态的 模式平面图。 图13(a)~(c)为本发明另一良好实施形态之光记录媒 体10之再生时,雷射束从雷射位置A、B、C照射上层 记录膜18之束点内各状态的模式平面图。 图14为再生时雷射束之焦点对准下层记录层1时,位 于其上部之上层记录层2为记录区域时(雷射位置A) 、未记录区域时(雷射位置B)、以及记录区域及未 记录区域之境界部份时(雷射位置C)之各雷射束光 路的模式剖面图。 图15(a)~(c)为传统光记录媒体之再生时,雷射束从雷 射位置A、B、C照射上层记录层2之束点内各状态的 模式平面图。 |
