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发明名称 process gas flow system of semiconductor device manufacturing equipment
摘要
申请公布号 KR100513399(B1) 申请公布日期 2005.09.09
申请号 KR20030034665 申请日期 2003.05.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/02;(IPC1-7):H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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