发明名称 Verfahren zum Korrigieren von Verletzungen von Maskenregeln nach optischer Nachbarschaftskorrektur, maschinenlesbares Speichermedium und System
摘要 Es wird ein Verfahren bereitgestellt zum Korrigieren von regelverletzenden Bereichen einer Fotomaske unter Verwendung einer digitalen Darstellung der Fotomaske. Das Verfahren beinhaltet das Identifizieren von Verletzungsbereichen der Fotomaske anhand einer digitalen Darstellung der Fotomaske. Die Verletzungsbereiche enthalten Bereiche, die eine Mindestbreitenregel verletzen, und/oder Bereiche, die eine Mindestabstandsregel für die Fotomaske verletzen. Die Verletzungsbereiche werden dann so bearbeitet, dass die Verletzungsbereidche eliminiert werden. Sie werden unterschiedlich bearbeitet, je nachdem, ob der Verletzungsbereich innerhalb einer Designform einer Layoutstruktur liegt, die unter Verwendung der Fotomaske abgebildet werden soll, und/oder ob der Verletzungsbereich außerhalb der Designform liegt.
申请公布号 DE102004040764(A1) 申请公布日期 2005.09.08
申请号 DE200410040764 申请日期 2004.08.23
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 MELLMANN, JOERG
分类号 G03C5/00;G03F1/00;G06F17/50;H01L21/822;(IPC1-7):G03F1/00 主分类号 G03C5/00
代理机构 代理人
主权项
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