发明名称 | 相位光栅图像传感器的制造方法 | ||
摘要 | 本发明有关一种相位光栅图像传感器的制造方法,其特点是至少包括下列步骤:提供一底材,该底材具有多个光传感元件于其上、一第一平坦层覆盖该多个光传感元件、一彩色滤光层覆盖该第一平坦层及一第二平坦层覆盖该彩色滤光层,其中该第一平坦层与该第二平坦层为透光;形成一光阻层覆盖该第二平坦层;转移多个相位光栅图案进入该光阻层以暴露出该第二平坦层,每一该相位光栅图案至少包括多个同心圆形环且每一该相位光栅图案分别对应于每一该光传感元件;非等向性蚀刻该第二平坦层至一预定深度以形成多个相位光栅透镜;及移除该光阻层。由于形成多个相位光栅透镜于传统微透镜下的平坦层内,这样可以相位光栅透镜取代传统微透镜。 | ||
申请公布号 | CN1218398C | 申请公布日期 | 2005.09.07 |
申请号 | CN02130207.3 | 申请日期 | 2002.08.16 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 黄进文;徐健斌 |
分类号 | H01L27/146;H01L21/70 | 主分类号 | H01L27/146 |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 任永武 |
主权项 | 1.一种相位光栅图像传感器的制造方法,其特征在于,至少包括下列步骤:提供一底材,该底材具有多个光传感元件于其上、一第一平坦层覆盖该多个光传感元件、一彩色滤光层覆盖该第一平坦层及一第二平坦层覆盖该彩色滤光层,其中该第一平坦层与该第二平坦层为透光;形成一光阻层覆盖该第二平坦层;转移多个相位光栅图案进入该光阻层以暴露出该第二平坦层,其中每一该相位光栅图案至少包括多个同心圆形环且每一该相位光栅图案分别对应于每一该光传感元件;非等向性蚀刻该第二平坦层至一预定深度以形成多个相位光栅透镜;及移除该光阻层。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路三号 |