氧化铟薄膜材料及制备方法

摘要

本发明公开了一种氧化铟薄膜材料及制备方法。材料包括衬底，特别是衬底上覆有单层或多层氧化铟球形孔构成的薄膜，氧化铟球形孔的直径为100～5000nm，薄膜的厚度为50nm～100μm；方法包括用旋涂法或垂直提拉法将胶体球附于衬底表面而形成模板，特别是先将浓度为0.1～0.5摩尔的氢氧化铟溶胶渗入衬底上的胶体球间，再将渗有氢氧化铟溶胶的模板于50～110℃下加热0.5～3小时，然后将浸在二氯甲烷中的模板置于超声波中1～3分钟，最后，将模板置于370～500℃下退火1～3小时，制得氧化铟薄膜材料。它制得的氧化铟薄膜材料是由呈六方紧密排列的、单层或多层的、孔间相互连通的、孔骨架致密的、孔径和厚度均为纳米或微米级的有序球形孔构成，制备的工艺简单、成本低，无污染，适于工业化生产。

主权项

1、一种氧化铟薄膜材料，包括衬底，其特征在于所说衬底上覆有单层或多层氧化铟球形孔构成的薄膜，所说氧化铟球形孔的直径为100～5000nm，所说薄膜的厚度为50nm～100μm。