发明名称 | 含铪膜形成材料、以及该形成材料和含铪薄膜的制造方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种气化稳定性优良、具有较高成膜速度的含铪膜形成材料以及该形成材料的制造方法。还提供一种具有良好的段差覆盖性的含铪薄膜的制造方法。本发明是一种含有有机铪化合物的含铪膜形成材料的改良,其中该有机铪化合物含有由铪原子与氮原子形成的键,或由铪原子与氧原子形成的键,具有其特征的构成在于形成材料中所含的锆元素的含量在650ppm或以下。 | ||
申请公布号 | CN1664164A | 申请公布日期 | 2005.09.07 |
申请号 | CN200410087435.0 | 申请日期 | 2004.09.08 |
申请人 | 三菱综合材料株式会社 | 发明人 | 斋笃;曾山信幸;柳泽明男 |
分类号 | C23C16/18;C07F7/00 | 主分类号 | C23C16/18 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 曹雯;庞立志 |
主权项 | 1.一种含铪膜形成材料,其为包含有机铪化合物的含铪膜形成材料,其特征在于:前述形成材料中所含的锆元素的含量在650ppm或以下。 | ||
地址 | 日本东京都 |