| 发明名称 | 流体辅助低温清洗 | ||
| 摘要 | 本发明涉及需要精细清洗的基材，如半导体、金属和绝缘膜的表面液体辅助低温清洗。该方法包括的步骤有将选自高蒸气压的液体、反应性气体和反应性液体蒸气的液体应用于基材表面，然后或同时对基材表面进行低温液体清洗以除去污染物。 | ||
| 申请公布号 | CN1665609A | 申请公布日期 | 2005.09.07 |
| 申请号 | CN03810362.1 | 申请日期 | 2003.04.03 |
| 申请人 | 波克股份有限公司 | 发明人 | S·巴那基;H·F·春 |
| 分类号 | B08B3/00 | 主分类号 | B08B3/00 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 周承泽 |
| 主权项 | 1.去除需要精细清洗的基材表面的污染物的方法，包括以下步骤：a)将至少一种流体应用于基材表面，流体选自高蒸气压液体、反应性气体和反应性液体；和b)对基材表面进行低温清洗。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||