发明名称 |
用于微电子应用的显影剂可溶的金属醇盐涂层 |
摘要 |
提供抗反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶解或分散在溶剂体系中的聚合物。在一个优选实施方案中,组合物的聚合物包含式(I)的重复单元,其中,X是光衰减部分,M是金属,R各自独立地选自氢、烷基、芳基、烷氧基和苯氧基。制得的组合物是适于自旋辊筒的(即,在微版印刷法的烘烤阶段之前或在室温的储存期间不发生交联),可显影的,并具有优良的光学性能。 |
申请公布号 |
CN1666146A |
申请公布日期 |
2005.09.07 |
申请号 |
CN03815198.7 |
申请日期 |
2003.06.18 |
申请人 |
部鲁尔科学公司 |
发明人 |
V·克里西那莫西;C·J·奈夫;J·A·M·斯努克 |
分类号 |
G03C1/735;G03C1/825;G03C1/835;G03F7/09;G03F7/20;G03F7/30;G03F7/36 |
主分类号 |
G03C1/735 |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
周承泽 |
主权项 |
1.一种用于光刻法的组合物,其包含:溶剂体系;分散或溶解在所述溶剂体系的聚合物,所述聚合物包含具有下式的重复单元:<img file="A038151980002C1.GIF" wi="397" he="321" />其中,X是光衰减部分,M是金属,R各自独立地选自氢、烷基、芳基、烷氧基和苯氧基。 |
地址 |
美国密苏里州 |