发明名称 |
非挥发性存储单元及其制造方法 |
摘要 |
一种非挥发性存储单元(Memory Cell),包括一开关装置,设置于一基板上;一第一平板电容,具有一第一掺杂区;以及一第二平板电容,具有一第二掺杂区,其中该开关装置与第一、第二平板电容是共享一多晶硅浮置栅极,以储存电荷作为该非挥发性存储单元的写入,并且在不导致该非挥发性存储单元内任何接面崩溃之下,由该第一掺杂区与该浮置栅极间的隧通(tunneling),来抹除该非挥发性存储单元;且该第一、第二掺杂区是在该多晶硅浮置栅极形成之前,形成于该基板中,使得在一操作电压范围之内,该第一、第二平板电容的电容值为固定值。 |
申请公布号 |
CN1665029A |
申请公布日期 |
2005.09.07 |
申请号 |
CN200410006126.6 |
申请日期 |
2004.03.02 |
申请人 |
世界先进积体电路股份有限公司 |
发明人 |
葛兆民;董家庆;谢佳桦 |
分类号 |
H01L27/115;H01L27/105;G11C16/04 |
主分类号 |
H01L27/115 |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
王一斌 |
主权项 |
1.一种非挥发性存储单元,包括:一开关装置,设置于一基板上;一第一平板电容,具有一第一掺杂区;以及一第二平板电容,具有一第二掺杂区,其中该开关装置与第一、第二平板电容共享一多晶硅浮置栅极,以储存电荷作为该非挥发性存储单元的写入,并且在不导致该非挥发性存储单元内任何接面崩溃之下,由该第一掺杂区与该浮置栅极间的隧通,来抹除该非挥发性存储单元;且该第一、第二掺杂区是在该多晶硅浮置栅极形成之前,形成于该基板中,使得在一操作电压范围之内,该第一、第二平板电容的电容值为固定值。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区 |