发明名称 非挥发性存储单元及其制造方法
摘要 一种非挥发性存储单元(Memory Cell),包括一开关装置,设置于一基板上;一第一平板电容,具有一第一掺杂区;以及一第二平板电容,具有一第二掺杂区,其中该开关装置与第一、第二平板电容是共享一多晶硅浮置栅极,以储存电荷作为该非挥发性存储单元的写入,并且在不导致该非挥发性存储单元内任何接面崩溃之下,由该第一掺杂区与该浮置栅极间的隧通(tunneling),来抹除该非挥发性存储单元;且该第一、第二掺杂区是在该多晶硅浮置栅极形成之前,形成于该基板中,使得在一操作电压范围之内,该第一、第二平板电容的电容值为固定值。
申请公布号 CN1665029A 申请公布日期 2005.09.07
申请号 CN200410006126.6 申请日期 2004.03.02
申请人 世界先进积体电路股份有限公司 发明人 葛兆民;董家庆;谢佳桦
分类号 H01L27/115;H01L27/105;G11C16/04 主分类号 H01L27/115
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 王一斌
主权项 1.一种非挥发性存储单元,包括:一开关装置,设置于一基板上;一第一平板电容,具有一第一掺杂区;以及一第二平板电容,具有一第二掺杂区,其中该开关装置与第一、第二平板电容共享一多晶硅浮置栅极,以储存电荷作为该非挥发性存储单元的写入,并且在不导致该非挥发性存储单元内任何接面崩溃之下,由该第一掺杂区与该浮置栅极间的隧通,来抹除该非挥发性存储单元;且该第一、第二掺杂区是在该多晶硅浮置栅极形成之前,形成于该基板中,使得在一操作电压范围之内,该第一、第二平板电容的电容值为固定值。
地址 台湾省新竹科学工业园区
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