基于多环聚合物的感光组合物

摘要

包括共聚物的共聚物组合物，所述共聚物具有式I的重复单元，其中X选自O，－CH₂－，和－CH₂－CH₂－；m是从0到5的整数；并且每次出现的R¹－R⁴独立地选自下列基团：H，包含一个或者多个选自O，N和Si的杂原子的C₁到C₂₅的线性，支链和环烷基，芳基，芳烷基，烷芳基，烯基和炔基；包含环氧官能团的基团；－(CH₂)_nC(O)OR⁵R⁵；－(CH₂)_nC(O)OR⁶，－(CH₂)_nOR⁶；－(CH₂)_nOC(O)R⁶；－(CH₂)nC(O)R⁶；(CH₂)_nOC(O)OR⁶R⁶；以及通过连接基团连接起来的两个R¹，R²，R³和的任一组合。一部分具有结构式I的重复单元含有至少一个环氧官能团侧基。共聚组合物可以包含在经光子形成光刻介电组合物中催化剂的物质中，所述光刻介电组合物可用于形成基质上的光刻层。

主权项

1.含有共聚物的共聚物组合物，所述共聚物具有两个或者多个下式I的重复单元：其中X选自O，-CH₂-，和-CH₂-CH₂-；m是从0到5的整数；并且每次出现的R¹，R²，R³和R⁴独立地选自下列基团之一：(a)H，C₁到C₂₅的线性，支链和环烷基，芳基，芳烷基，烷芳基，烯基和炔基；(b)包含一个或者多个选自O，N和Si的杂原子的C₁到C₂₅的线性，支链和环烷基，芳基，芳烷基，烷芳基，烯基和炔基，；(c)包含下式II的基团的环氧基：其中A是选自C₁到C₆的线性，支链和环亚烷基的连接基团，而R²³和R²⁴独立地选自H，甲基，和乙基；(d)包含下式III的基团的环氧基：其中p是0到6的整数，R²³和R²⁴如上所述，并且每次出现的R²¹和R²²独立地选自H，甲基和乙基；(e)-(CH₂)_nC(O)OR⁵，-(CH₂)_nC(O)OR⁶，-(CH₂)_nOR⁶，(CH₂)_nOC(O)R⁶，-(CH₂)_nC(O)R⁶，和-(CH₂)_nOC(O)OR⁶；以及(f)通过连接基团连接起来的R¹，R²，R³和R⁴之中两个的任一组合，所述连接基团选自C₁到C₂₅的线性，支链和环亚烷基以及亚烷芳基；其中n是从1到25的整数，R⁵是对酸敏感的基团，并且R⁶选自H，C₁到C₆的线性，支链以及环烷基，包含如上所定义II基团的环氧基团；并且其中一部分具有结构式I的重复单元包含至少一种环氧官能侧基。