图案化光阻层的形成方法及其制造机台

摘要

一种图案化光阻层的形成方法，适于形成与一膜层对准之一图案化光阻层，此图案化光阻层的形成方法包括下列步骤：(a)于一基材上形成一光阻层；(b)对光阻层进行曝光：(c)量测光阻层的曝光位置与上述膜层之间的一重叠误差；(d)根据重叠误差判断光阻层的曝光位置是否适当；以及(e)当光阻层的曝光位置适当时，对光阻层进行显影。另外，一种图案化光阻层的制造机台亦被提出，其利用上述之形成方法来即时回授重叠量测结果，以减少图案化光阻层的制造时间以及重工时间。