进行半导体机台初期流动管理之方法与相关系统

摘要

本发明提供一种进行半导体机台初期流动管理之方法及相关系统。其方法包含有：纪录各机台之各个制程参数、于各机台进行对应之制程处理时，将各机台进行制程处理之情形记录于至少一对应之设备参数、在各机台对各半导体制品完成对应之制程处理后，评估并纪录各个处理后半导体制品之品质及对应之量测参数、以及分析各机台对应之各制程参数、各设备参数、与对应半导体制品品质间的关系。