相位移光罩之影像平衡方法

摘要

一种利用两次光罩写入的方法，在透明底材上方形成一非蚀刻相位移开口，以及在透明底材内形成一底切结构，使得当曝光光源照射该底切结构，以及非蚀刻相位移开口时，在底切结构与非蚀刻相位移开口之间的深度具有180度的相位。另，经由曝光光源照射之后所产生的光源强度，与非蚀刻相位移开口所产生的光源强度相等，使得当图案在转移时，可以产生具平衡之影像位于晶片上。