| 摘要 |
本发明描述一种方法，包括：准备基板，该基板包含第一个区域和第二个区域；形成多层镜覆于该基板上；形成相移层覆于该多层镜上；形成封堵层覆于该相移层上；移除该第二个区域中的该封堵层和该相移层；该第一个区域和该第二个区域以EUV光照射；和反射移开该第一个区域和该第二个区域的EUV光。本发明亦描述一种构造，包括：基板，该基板包含第一个区域和第二个区域；多层镜，覆于该第一个区域和该第二个区域；相移层，覆于第一个区域中的该多层镜上；强度均衡层，覆于该第二个区域中的该多层镜上；和封堵层，覆于该第一个区域中的该相移层上和覆于该第二个区域中的该强度均衡层上。 |
