半导体装置之制造方法及光罩图案数据作成方法

摘要

一种半导体装置之制造方法，系该半导体装置具有：第1布线图案，依照纵方向延伸；第2布线图案，具有与第1布线图案相同之形状，依照与纵方向正交之方向(横方向)延伸者，其中所具备之步骤包含有：使用直线偏极照明，依照包含有第1布线图案形成用之光罩图案(16)和第2布线图案形成用之光罩图案(17)之光罩图案，进行曝光之步骤；及在曝光后，形成依照光罩图案(16、17)之形状之第1和第2布线图案之步骤；使第1和第2布线图案形成用之光罩图案(16、17)之形状成为互异。