发明名称 用于消除含污染物气体流中化学污染物的方法及其装置
摘要 本案系提供一种用以处理位在一气体流中之污染物的装置与方法。该装置包含有数个用以将一气体流与其它氧化性及惰性气体相混合的管状注入口,俾以在一反应室内形成混合物。该反应室系藉由加热元件来加热,并具有数个孔口,冷却或加热之气体可经由该等孔口进入该反应室中。本案亦提供一程方法,藉由该方法能将额外气体加入该气体流内,较佳为在650℃至950℃之温度范围内实施,俾最小化或减少氮氧化物NOx之产生。
申请公布号 TWI238740 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW088106515 申请日期 1999.04.23
申请人 卓越科技材料股份有限公司 发明人 提蒙狄L. 赫曼;杰克.艾利斯;佛罗里斯Y. 藏;丹尼尔O. 克拉克;贝琳达.福里波;大卫.伊诺里;凯斯.克鲁普;马克.摩根兰德;亚伦.毛
分类号 B01D53/92 主分类号 B01D53/92
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种用于消除含污染物气体流中化学污染物的方法,其包含下列步骤:将该气体流经由一预反应段而导入一反应室中,该预反应段包含收纳有至少一个第二注入口的至少一导管,该第二注入口系用以将至少一额外气体、液体及/或固体导入该预反应段中;将该额外气体、液体及/或固体导入该第二注入口中;藉由混合及任择地加热,使得该气体流与该额外气体、液体与/或固体进行反应,以形成一先驱物反应流;将该先驱物反应流导入该反应室中,并在该室中进行污染物消除反应,该反应的温度范围系介于650℃950℃之间。2.如申请专利范围第1项之方法,其更包含将气体经由一液体涡流器而排出该反应室的步骤。3.如申请专利范围第1项之方法,其中该额外气体包括氢气。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该额外气体包括氨气。5.如申请专利范围第1项之方法,其中该额外气体包括空气。6.如申请专利范围第1项之方法,其中该额外气体包括氧气。7.如申请专利范围第1项之方法,其中该额外气体包括氨气与氧气。8.如申请专利范围第1项之方法,其中该额外气体包括氨气与空气。9.如申请专利范围第1项之方法,其中该额外气体包括水蒸气。10.如申请专利范围第1项之方法,其中该额外气体包括醇类。11.如申请专利范围第10项之方法,其中该额外气体包括甲醇。12.如申请专利范围第1项之方法,其中该额外气体包括醚类。13.如申请专利范围第12项之方法,其中该醚包括二甲醚。14.如申请专利范围第1项之方法,其中该额外气体包括胺类。15.如申请专利范围第1项之方法,其中该额外气体更包括烃类。16.如申请专利范围第14项之方法,其中该胺类包括甲胺。17.如申请专利范围第1项之方法,其中氮氧化物NOx为该流中被消除之一污染物。18.如申请专利范围第1项之方法,其中该反应的温度范围系介于700℃至840℃之间。19.一种用于消除含污染物气体流中化学污染物的热反应器,其包含:一预反应注入段及一紧邻的热反应段,该热反应段包含一具有内壁的中央反应室及环设地围绕着该内壁以提供该内壁热表面的电加热元件;该中央反应室之一通入端与一出口端,且该通入端紧邻该预反应注入段;一位在该中央反应室内并邻接于该通入端之受热区,其中进入该中央反应室之气体在该通入端处额外地进行反应与混合;以及一位在该中央反应室附近的圆环埠,该圆环埠系供气体沿着该中央反应室的内表面流动以降低或消除微粒物质在该中央反应室壁上的累积,该圆环埠位于该受热区的上游。20.一种用于消除含污染物气体流中化学污染物的热反应器,其包含:一预反应注入段及一相邻的热反应段,该热反应段包括一中央反应室,该中央反应室具有环状地围绕着其内壁以提供该内壁热表面的电加热元件;该中央反应室之一通入端与一出口端且该通入端紧邻该预反应注入段;一位在该中央反应室内并邻接于该通入端之受热区,其中进入该中央反应室之气体进行反应与混合;以及一位在该中央反应室内供用以将气体导入该中央反应室的孔口;该孔口位于该受热区的下游。21.如申请专利范围第20项之热反应器,其中该等加热元件被环设于该内壁中的该室之周围。22.如申请专利范围第20项之热反应器,其中该等加热元件被环设于该内壁上的该室之周围。23.一种用于处理一气体流中气体污染物的装置,该装置包含:一预反应注入段及一紧邻的热反应段;该热反应段包含有一具有内壁的中央反应室及环状地围绕着该内壁以提供该内壁热表面的电加热元件;该中央反应室之一通入端与一出口端,该通入端系用于导入至少为气体污染物及一试剂气体的气体混合物,该出口端系用于至少为反应产物的气体流;一介于该中央反应室之该通入端与出口端间,用于将空气导入该中央反应室的孔口;该预反应注入段包含至少一注入口,其用以将该气体污染物及试剂气体流的气体混合物导入该中央反应室的通入端,该注入口包含有一导管,该导管之一部分终止于该中央反应室内,其中该导管之该部分系位于一突伸出该导管之一端的管路中,以界定位在该管路中之一室,该管路具有一与该中央反应室内部连通的开口端;位于该中央反应室通入端的埠件,用以将一试剂沿着该中央反应室之壁导入该中央反应室中,以消除所累积的微粒;该导管更收纳有一个第二注入口,用以将该试剂气体导入该导管中,使得气体污染物及试剂气体在进入该中央反应室之前预混合;以及一气体分配器,用以将一气体、液体或固体导入位于该管路之该开口端下游的该中央反应室内。24.如申请专利范围第23项之装置,其中该气体分配器包含有一歧管。25.如申请专利范围第23项之装置,其中该气体分配器包含有一注入器。26.如申请专利范围第23项之装置,其中该气体分配器系位于一受热区之外,而该受热区形成在接近该管路的开口端。27.如申请专利范围第23项之装置,其中该等加热元件被环设于该内壁中的该室之周围。28.如申请专利范围第23项之装置,其中该等加热元件被环设于该内壁上的该室之周围。图式简单说明:第1图为本发明进气导管之图式,说明一用以将气体延室壁与选择性的分配器而导入气体;第2图为一本发明热反应器之正视剖面图;第3图为本发明液体涡旋设计的剖面图;第3A图为本发明液体涡旋设计之另一实例的剖面图;第4图为一具有热反应器与填充床液涤器的装置。
地址 美国
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