| 主权项 |
1.一种无机配向膜之形成方法,系属于在基材上形成无机配向膜之方法,其特征为,具有:在前记基材上,形成一主要以无机材料所构成之膜的成膜工程;和在前记膜的表面上,从对于该表面之垂直方向恰好倾斜所定角度b的方向,照射离子束的研磨工程。2.如申请专利范围第1项之无机配向膜之形成方法,其中,于前记研磨工程中,藉由令离子束照射在前记膜上,使得前记膜上形成具有所定方向性的凹部。3.如申请专利范围第1项或第2项之无机配向膜之形成方法,其中,前记研磨工程中的前记所定角度b系2以上。4.如申请专利范围第1项或第2项之无机配向膜之形成方法,其中,前记研磨工程中的前记离子束照射之际的前记离子束的加速电压,系400-1400V。5.如申请专利范围第1项或第2项之无机配向膜之形成方法,其中,前记研磨工程中所照射的前记离子束的离子束电流,系100-1000mA。6.如申请专利范围第1项或第2项之无机配向膜之形成方法,其中,前记研磨工程中的前记膜之附近的气氛之压力为5.010-3Pa以下。7.如申请专利范围第1项或第2项之无机配向膜之形成方法,其中,前记成膜工程中的前记膜的形成,系藉由溅镀法进行。8.如申请专利范围第1项或第2项之无机配向膜之形成方法,其中,前记无机材料,系以矽的氧化物为主成份者。9.一种无机配向膜,其特征为,是以申请专利范围第1项或第2项之无机配向膜之形成方法所形成。10.如申请专利范围第9项之无机配向膜,其中,无机配向膜的平均厚度为0.02-0.3m。11.一种电子装置用基板,其特征为,在基板上,具备电极和申请专利范围第9项的无机配向膜。12.一种液晶面板,其特征为,具备申请专利范围第9项的无机配向膜,和液晶层。13.一种液晶面板,其特征为,具备一对之申请专利范围第9项的无机配向膜,且在前记一对之无机配向膜之间具备液晶层。14.一种电子机器,其特征为,具备申请专利范围第12项的液晶面板。15.一种电子机器,其特征为,具有:具备了申请专利范围第12项的液晶面板的光阀,至少使用一个该光阀来投射影像。16.一种电子机器,系属于具有:对应于形成影像的红色、绿色及蓝色的3个光阀;和光源;和将来自该光源的光分离成红色、绿色、蓝色,并将前记各光导至对应之前记光阀的色分离光学系;和合成前记各影像之色合成光学系;和将前记所合成的影像予以投射之投射光学系的电子机器,其特征为,前记光阀,系具备申请专利范围第12项的液晶面板。图式简单说明:图1本发明之液晶面板之第1实施形态的模式纵剖图。图2以本发明之方法所形成之无机配向膜的表面状态的模式之部份斜视图。图3以本发明之方法所形成之无机配向膜之部份纵剖图。图4用来说明本发明之无机配向膜之形成方法的图。图5用来形成膜的离子束溅镀装置之模式图。图6用于在膜上形成凹部的研磨装置之模式图。图7本发明之液晶面板之第2实施形态的模式纵剖图。图8适用了本发明之电子机器的携带型(或笔记型)个人电脑的构成斜视图。图9适用了本发明之电子机器的行动电话机(含PHS)的构成斜视图。图10适用了本发明之电子机器的数位相机的构成斜视图。图11本发明之电子机器(投射型显示装置)的光学系的模式图。 |
