发明名称 发热体化学气相沉积装置、及发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之间的连接构造
摘要 本发明的课题是针对于:一种发热体化学气相沉积(CVD)装置,将电气式地连接发热体与电力供给机构的复数个连接端子,施以电气式地绝缘,并保持在事先决定的位置,将连接于该连接端子的发热体,不会使连接于连接端子的发热体的连接部领域露出于处理容器内的空间地相对向于基板座而加以支持的连接端子座一个或复数个设置于处理容器内。将具备发热体以非接触通过的发热体通过孔,及气体通过用的复数贯通孔的遮蔽板,配设在经由发热体通过孔而朝处理器内侧延伸的发热体的部分,及朝连接端子座的处理容器内的一边的面之间。在发热体的端部配设比发热体大径的连接用销,具有比该连接用销的径较小内径的小孔,同时在具备朝轴方向延伸于形成该小孔的周壁的开缝的连接端子的销承受部的该小孔嵌插上述连接用销。
申请公布号 TWI239046 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW092127202 申请日期 2003.10.01
申请人 安内华股份有限公司;北陆先端科学技术大学院大学 发明人 石桥启次;田中雅彦;柄泽稔;砂山英树;山田和孝;松村英树;增田淳
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种发热体化学气相沉积装置,属于具备:对于被保持于具备于内部的基板座的基板进行所定处理的处理容器,及被连接于该处理容器而真空地排气处理容器内的排气系统及将所定原料气体供给于处理容器内的原料气体系统,及配置于该处理容器内并受到来自电力供给机构的电力供给而成为高温的发热体;藉由从上述原料气体供给系统被导入处理容器内的原料气体被维持在高温的发热体施以分解及/或活性化,而在被保持于上述基板座的基板形成有薄膜的发热体化学气相沉积装置,其特征为:将电气式地连接上述发热体与电力供给机构的复数个连接端子,施以电气式地绝缘,并保持在事先决定的位置,将连接于该连接端子的发热体,不会使连接于连接端子的发热体的连接部领域露出于处理容器内的空间地,相对向于上述基板座而加以支持的连接端子座一个或复数个设置于处理容器内之同时,将具备上述发热体以非接触通过的发热体通过孔,及气体通过用的复数贯通孔的遮蔽板,配设在经由该发热体通过孔而朝处理器内侧延伸的发热体的部分,及朝连接端子座的处理容器内的一边的面之间。2.一种发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之间的连接构造,属于具备:对于被保持于具备于内部的基板座的基板进行所定处理的处理容器,及被连接于该处理容器而真空地排气处理容器内的排气系统及将所定原料气体供给于处理容器内的原料气体系统,及配置于该处理容器内并受到来自电力供给机构的电力供给而成为高温的发热体;藉由从上述原料气体供给系统被导入处理容器内的原料气体被维持在高温的发热体施以分解及/或活性化,而经由连接端子电气式地连接被保持于上述基板座的基板形成有薄膜的发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之同时,将连接于上述连接端子的发热体的连接部领域不会露出于处理容器内的空间的发热体与电力供给机构之问的连接部的构造,其特征为:在上述发热体的端部具备有连接用销;上述连接端子是具备有上述发热体端部的连接用销被插卸的小孔的销承受部;该销承受部的小孔内径小于上述连接用销的径;在形成该小孔的销承受部的周壁设有朝上述连接用销被插卸方向延伸的开缝。3.如申请专利范围第2项所述的发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之间的连接构造,其中连接端子是设在朝处理容器内的一边,在上述销承受部具有经由发热体插通孔连通的连接端子内部空问,同时在面临于处理容器内的部分具有连通该连接端子内部空间与处理容器内的气体通过孔;具有藉由连接于该连接端子的上述发热体以非接触状态插通该气体通过孔,将连接于该连接端子的发热体的连接部领域不会露出于处理容器内的空间的构造;在面临于上述发热体插通孔的连接端子内部空间的开口部侧,配备有介设在上述发热体插通孔的内周壁,与发热体端部的连接用销之间的间隔件。4.一种发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之间的连接构造,属于具备:对于被保持于具备于内部的基板座的基板进行所定处理的处理容器,及被连接于该处理容器而真空地排气处理容器内的排气系统及将所定原料气体供给于处理容器内的原料气体系统,及配置于该处理容器内并受到来自电力供给机构的电力供给而成为高温的发热体;藉由从上述原料气体供给系统被导入处理容器内的原料气体被维持在高温的发热体施以分解及/或活性化,而在被保持于上述基板座的基板形成有薄膜的发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之间的连接构造,其特征为:设置于处理容器内的一个或复数个连接端子座,将电气式地连接上述发热体与电力供给机构的复数个连接端子,施以电气式地绝缘,并保持在事先决定的位置,将连接于该连接端子的发热体,不会使连接于连接端子的发热体的连接部领域露出于处理容器内的空间地相对向于基板座而加以支持;在上述发热体的端部具备有连接用销;上述连接端子是具备有上述发热体端部的连接用销被插卸的小孔的销承受部;该销承受部的小孔内径小于上述连接用销的径;在形成该小孔的销承受部的周壁设有朝上述连接用销被插卸方向延伸的开缝。5.如申请专利范围第4项所述的发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之间的连接构造,其中连接端子是设在朝处理容器内的一边,在上述销承受部具有经由发热体插通孔连通的连接端子内部空间,同时在面临于处理容器内的部分具有连通该连接端子内部空间与处理容器内的气体通过孔;具有藉由连接于该连接端子的上述发热体以非接触状态插通该气体通过孔,将连接于该连接端子的发热体的连接部领域不会露出于处理容器内的空间的构造;在面临于上述发热体插通孔的连接端子内部空间的开口部侧,配备有介设在上述发热体插通孔的内周壁,与发热体端部的连接用销之间的间隔件。6.一种发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之间的连接构造,属于具备:对于被保持于具备于内部的基板座的基板进行所定处理的处理容器,及被连接于该处理容器而真空地排气处理容器内的排气系统及将所定原料气体供给于处理容器内的原料气体系统,及配置于该处理容器内并受到来自电力供给机构的电力供给而成为高温的发热体;藉由从上述原料气体供给系统被导入处理容器内的原料气体被维持在高温的发热体施以分解及/或活性化,而在被保持于上述基板座的基板形成有薄膜的发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之间的连接构造,其特征为:设置于处理容器内的一个或复数个连接端子座,藉由将电气式地连接发热体与电力供给机构的复数个连接端子,施以电气式地绝缘,并保持在事先决定的位置,将分别连接于该复数个连接端子的发热体相对向支持于基板座;上述各连接端子座是具有导入气体的气体导入系统所连接的第一内部空间;电气式地绝缘并保持在该各连接端子座的事先决定的位置的上述复数连接端子是在面临于各该处理容器的一边具备连接端子内部空间,同时藉由具备面临于处理容器内的一边连通该连接端子内部空间与处理容器内,连接于该连接端子上述发热体以非接触状态插通该处的气体通过孔,具有将连接于该连接端子的发热体的连接部领域不会露出于处理容器内的空间的构造;上述连接端子内部空间与上述连接端子座的第一内部空间相连通,电气式地连接连接端子与电力供给机构之连接部,或是连接端子与电力供给机构之连接部及连接端子与连接端子之间的配线部分配置于上述第一内部空间;覆盖面临于该连接部及配线部分的上述第一内部空间的部分地配设绝缘材,及/或以绝缘材被覆面临于连接端子座的上述第一内部空间的面。图式简单说明:第1图是表示本发明的发热体化学气相沉积装置的较佳实施形态的发热体与电力供给机构的连接部的断面构造的图式。第2图是表示本发明的发热体化学气相沉积装置的另一较佳实施形态的发热体与电力供给机构的连接部的断面构造的图式。第3(a)图是表示发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之间的依本发明的连接构造的图式;相当于第2图的A部的部分的扩大剖视图。第3(b)图是表示从第3(a)图中下侧观看销承受部的图式。第3(c)图是表示将说明连接用销被嵌插于销承受部的状态的一部分予以省略的侧视图。第4图是扩大表示发热体热胀而朝横方向延伸时的可能产生的形态的图式。第5(a)图是表示发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之间的依本发明的其他连接构造的图式;相当于第3(a)图的图式。第5(b)图是扩大表示第5(a)图的一部分的图式。第6图是表示发热体化学气相沉积装置的发热体与电力供给机构之间的依本发明的又一连接构造的图式。第7图是表示习知的发热体化学气相沉积装置的构成例的概念图。第8图是表示习知的发热体化学气相沉积装置的其他构成例的发热体的部分的构成的概念图。
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