发明名称 电子装置之制造方法
摘要 本发明提供能够形成图案不会倒塌之微小图案之光阻剂组合物以及显影方法。图案形成方法系使聚合物溶解度参数之值为超临界二氧化碳溶解度参数值以下之聚合物作为主成分之光阻剂组合物涂布在基板上,实施所需之图案曝光处理,使用200个大气压以下之超临界二氧化碳进行显影者。
申请公布号 TW200528916 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW093117057 申请日期 2004.06.14
申请人 日立制作所股份有限公司 发明人 逆水登志夫;福田宏;白石洋
分类号 G03F7/00;H01L21/027 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本