发明名称 分析侧壁间隔层之光散射测量法
摘要 一种分析一基材上之侧壁间隔层结构性质的方法,系先提供一具有复数个格栅靶之格栅板,并将此格栅板进行光散射测量以得一理论散射光谱。接着,进行侧壁间隔层之光散射测量以得一实验散射光谱。当理论散射光谱实质上同于实验散射光谱时,即可对应格栅靶的结构性质至侧壁间隔层的结构性质。
申请公布号 TW200528706 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW093137228 申请日期 2004.12.02
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 陶宏远;陈方正
分类号 G01N21/47;H01L21/66 主分类号 G01N21/47
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号