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发明名称
离子植入方法及装置
摘要
一种离子植入方法包括藉电场或磁场于X方向,往复式扫描离子束,以及于正交于X方向之Y方向,以机械方式往复式驱动一基体,以植入离子于基体之全体表面上。经由于离子束入射基体之一区,改变离子束扫描速度与基体驱动速度中之至少一者,可于该基体平面之中形成于基体平面非均匀之剂量分布。
申请公布号
TW200529275
申请公布日期
2005.09.01
申请号
TW093129822
申请日期
2004.10.01
申请人
日新意旺机器股份有限公司
发明人
松本贵雄;长井宣夫
分类号
H01J37/317;H01L21/265
主分类号
H01J37/317
代理机构
代理人
赖经臣;宿希成
主权项
地址
日本
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