发明名称 溅镀靶、光资讯记录媒体及其制造方法
摘要 一种溅镀靶,其特征为,系于In2O3–ZnO–SnO2系复合氧化物(以SnO2为主成分)中添加选自Ta、Y之任1种或2种元素之氧化物之材料所构成。系有关于光资讯记录媒体用薄膜(特别是作为保护膜)及其制造方法以及可适用于该等之溅镀靶者,该溅镀膜之非晶质性安定、成膜速度快、与记录层之密合性及机械特性优异、且透过率高,而由于系以非硫化物系构成,故邻接之反射层、记录层不易产生劣化。藉此,可提升光资讯记录媒体之特性以及大幅改善生产性。
申请公布号 TW200528567 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW093140517 申请日期 2004.12.24
申请人 日材料股份有限公司 发明人 高见英生;矢作政隆
分类号 C23C14/00;G11B7/24 主分类号 C23C14/00
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本