发明名称 电化学机械研磨之研磨垫
摘要 本发明提供一种导体基板之电化学机械研磨的研磨垫。该研磨垫包括形成于该研磨垫之研磨表面中的复数条沟槽,该手沟槽会被调适成帮助研磨流体在该研磨垫上方流动。等体层会个别形成于该等沟槽中,并且互相进行电通信。
申请公布号 TW200528238 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW093124866 申请日期 2004.08.18
申请人 罗门哈斯电子材料CMP控股公司 发明人 李 梅保尼 库克;大卫B 詹姆士;约翰V H 罗伯斯
分类号 B24D11/00;B23H5/08;H01L21/304 主分类号 B24D11/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国