抛光垫

摘要

本发明揭示一种可用于平坦化半导体基板之抛光垫。该抛光垫包含一具有一至少0.1体积％之孔隙率、在40℃及1rad／sec下为385至750 1／Pa之KEL能量损耗因子及在40℃及1 rad／sec下为100至400MPa之模数E’之聚合物材料。