在热处理室中用于校准温度测量装置的系统和方法

摘要

公开了一种在热处理室中校准温度测量装置(10)如高温计的方法和系统。根据本发明，该系统包括将光能(23)发射到容纳在热处理室(14)中的衬底上的校准光源。而后，光探测器(42)探测透过该衬底的光线数量。然后，将探测的光能量用于校准在该系统中使用的温度测量装置(27)。

主权项

1.一种在热处理室中校准温度测量装置的方法，包括提供容纳至少一个用于监视设置在所述室中的半导体晶片的温度的温度测量装置的热处理室，所述热处理室与加热容纳在所述室中的晶片的加热装置相通，所述室进一步包括一校准光源；将一校准晶片设置在所述热处理室中；当使用所述加热装置加热所述校准晶片时，将所述校准光源的光能发射到所述校准晶片上；探测校准光源发射的透过校准晶片的光能量，并且基于探测的透射光量来确定校准晶片的温度；以及基于确定的温度来校准温度测量装置。