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发明名称
Maskless particle-beam system for exposing a pattern on a substrate
摘要
申请公布号
GB2389454(B)
申请公布日期
2005.08.31
申请号
GB20030000693
申请日期
2003.01.13
申请人
* IMS NANOFABRICATION GMBH
发明人
ELMAR * PLATZGUMMER;HANS * LOESCHNER;GERHARD * STENGL;HERBERT * VONACH;ALFRED * CHALUPKA;GERTRAUD * LAMMER;HERBERT * BUSCHBECK;ROBERT * NOWAK;TILL * WINDISCHBAUER
分类号
G03F7/20;H01J37/04;H01J37/09;H01J37/305;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01J37/30
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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