| 发明名称 | 掩膜数据的修正方法、光掩膜和光学像的预测方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种考虑了实际曝光装置的特性的掩膜数据的修正方法、光掩膜、掩膜数据的修正程序。在制作在光刻工序中使用的光掩膜时所使用的掩膜数据的修正方法，根据使用包含使用光掩膜的曝光装置中的照明亮度分布的不均匀性的信息的仿真进行掩膜数据的修正，其中上述光掩膜是使用上述修正结果得到的掩膜数据制作的光掩膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1661773A | 申请公布日期 | 2005.08.31 |
| 申请号 | CN200510008834.8 | 申请日期 | 2005.02.23 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 福原和也;河村大辅;三本木省次 |
| 分类号 | H01L21/00;H01L21/027;G03F7/00;G06F17/50 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 李峥;于静 |
| 主权项 | 1.一种掩膜数据的修正方法，是在制作在光刻工序中使用的光掩膜时使用的掩膜数据的修正方法；根据使用包含使用光掩膜的曝光装置中的照明亮度分布的不均匀性的信息的仿真，进行掩膜数据的修正，其中上述光掩膜是使用上述修正结果得到的掩膜数据制作的光掩膜。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||