等离子体反应器的产量增进热喷涂含氧化钇涂层

摘要

本发明涉及一种包含热喷涂含氧化钇涂层的半导体处理设备的组件，所述涂层在等离子体大气中提供抗侵蚀、腐蚀和/或腐蚀－侵蚀性。所述涂层可以保护基板以免受到物理和/或化学破坏。

主权项

1.一种半导体处理设备的组件，其包含：一个包括一个表面的基板；和一个基本上由布置在所述表面上的氧化钇所组成的热喷涂涂层，所述涂层包括所述组件的一个最外层表面。