发明名称 高精度双旋转摆动重力式平面研磨抛光机
摘要 本实用新型涉及一种材料加工设备,特别是一种高精度双旋转摆动重力式平面研磨抛光机。它是由磨抛盘、主动支撑轮、被动支撑轮、主动轴、主动轴轮、输出轴轮、电机减速装置、支架凸轮往复左右摆动装置、连接板、载料支架、磨抛机支杆组成,磨抛机支杆上安装有连接板,连接板右上端接有电机减速装置,其上端与输出轴轮连接,主动轴轮又与主动轴套装,主动轴与主动支撑轮相结合。磨抛机支杆与连接板相交处装有顶丝,支架凸轮往复左右摆动装置上装有主动支撑轮和被动支撑轮,输出轴轮与主动轴轮之间通过传动皮带连接。主动支撑轮与载料块相切。本实用新型制造工艺简单,易损件几乎没有。
申请公布号 CN2721317Y 申请公布日期 2005.08.31
申请号 CN200420070557.4 申请日期 2004.09.07
申请人 张革 发明人 张革
分类号 B24B37/04;B24B39/06 主分类号 B24B37/04
代理机构 沈阳技联专利代理有限公司 代理人 张志刚
主权项 1.高精度双旋转摆动重力式平面研磨抛光机,由磨抛盘、主动支撑轮、被动支撑轮、主动轴、主动轴轮、输出轴轮、电机减速装置、支架凸轮往复左右摆动装置、连接板、载料支架、磨抛机支杆组成,其特征在于:磨抛机支杆(2)上安装有连接板(5),连接板(5)与支架凸轮往复左右摆动装置(3)相固装,连接板(5)右上端接有电机减速装置(6),其上端与输出轴轮(7)连接,主动轴轮(9)又与主动轴(10)套装,主动轴(10)与主动支撑轮(1)相结合。
地址 110003辽宁省沈阳市和平区南三好街108号沈阳交通大厦702室