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发明名称 A NOVEL TECHNIQUE TO ACHIEVE THICK SILICIDE FILM FOR ULTRA-SHALLOW JUNCTIONS
摘要
申请公布号 SG113510(A1) 申请公布日期 2005.08.29
申请号 SG20040003037 申请日期 2004.05.27
申请人 CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING LTD 发明人 CHENG CHEH TAN;RANDALL CHER LIANG CHA;ALEX SEE;LAP CHAN
分类号 (IPC1-7):HO1L21/44 主分类号 (IPC1-7):HO1L21/44
代理机构 代理人
主权项
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